哦，众人闻言都看向了吴浩。
呵呵，面对众人的目光，吴浩笑着说道：“主要还是复合式透镜组的精度，精度越高，极紫外光的波长也就越短，对于光线的控制也就越精准，所生产出来的芯片制程也就越高。
当然了，光刻机技术的发展不止是光源和透镜组这一块，还要其它一系列技术的发展和进步。简单来说，这就是一个复杂的系统性工程，需要各方面全面发展才行。
对于我们来说，现阶段我们要做的一方面是加强对于现阶段5纳米制程euv光刻机的生产，使其能够满足我们国内芯片制造领域的发展和需求，解决芯片紧缺这个紧要问题。
虽然说相比于目前国际先进的3纳米和2纳米芯片还有一定的差距，但这个差距其实并不大。就现阶段来说，完全可以满足我们相关企业对于高端芯片的需求。
而另一方面，我们也需要吃透和消化5纳米制程euv光刻机研制成功经验，为下一步研发更高制程euv光刻机奠定基础。”
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